主要用途：
廣泛用于硅片、陶瓷、不銹鋼平面、LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、諸片、模具、導(dǎo)光板，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光．
工作原理：
本研磨機為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。
特 點：
1．采用間隔式自動噴液裝置，可自由設(shè)定噴液間隔時間。
2．系列研磨機工件加壓采用氣缸加4的方式，壓力可調(diào)； 拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無料紋、無麻點、不塌邊、平面度高等特點。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。
3．系列研磨機采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，研磨盤轉(zhuǎn)速與定時可直接在觸摸屏上輸入。
聯(lián)系方式：
柳 偉：13138882230
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傳真：0755-29377046
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